27年就職：本採用
研究開発職
【27卒】＜個別面談＞ 募集！「半導体の薄膜形成・エッチング技術の研究開発」
- 募集職種
- 研究開発職
- 対象資格
- 2027年修了見込みの方 学部, 修士, 博士, 高専, 高専専攻科
- 対象専攻
- 工学 / 機械工学・電気電子工学・材料工学・プロセス・化学工学・総合工学 総合理工 / ナノ・マイクロ科学・応用物理学 数物系科学 / 物理学・プラズマ科学 化学 / 材料化学
- 勤務予定地
- 静岡県
- 面接予定地
- オンライン面接, 静岡県
- 備考
- まずは個別面談（オンライン）でアルバック、仕事に内容についてご説明いたします
- 選考フロー・応募後の流れ
- １．個別面談 スカウト承諾いただいた方には、個別面談（オンライン）でアルバック、仕事に内容についてご説明いたします ２．来社イベント（希望者） 当社の装置見学、社員との交流 ３．応募受付 LabBase承諾者には早期選考のご案内をいたします 応募希望の方にマイページID、PWをお伝えし、ご登録をお願いします ４．エントリーシート提出 ５．面接（１～2回）
- 仕事内容
- 株式会社アルバックは、真空技術をコアに70年以上の歴史を持つプライム市場上場の技術開発型企業です。 半導体、電子部品、FPD（フラットパネルディスプレイ）の製造に用いられる装置をはじめ、真空ポンプや真空計などのコンポーネント、さらには成膜材料までを手がける、世界でも稀少な「真空総合メーカー」です。 私たちの製品は、産業の中核を担う多くの分野で活用されています。 特に今後成長が期待されるAI関連ビジネスに不可欠な半導体・電子デバイス分野での更なる事業拡大を目指しています。 【半導体・電子デバイスとその製造技術】 半導体・電子デバイスは、もはや現代社会の基盤を支えるインフラの一つです。 近年注目される生成AI（例：ChatGPT）も、これらの技術が支えています。 半導体デバイスは、極めて薄い膜を幾重にも積層・加工して形成されます。 「膜を形成する」「削る」という工程を繰り返し、目的の構造を精密につくり上げていきます。 製造工程は500〜1000にもおよび、それぞれのプロセスに特化した装置が必要とされます。 私たち装置メーカーは、デバイスメーカーと連携しながら、 これら一つひとつの工程を実現するための製造装置を開発しています。 ここで、アルバックの真空技術が重要な役割を果たします。 【業務内容】 当社では、以下のような半導体製造装置・プロセスの研究開発に取り組んでいます： ・スパッタリング ・CVD（化学気相成長） ・ALD（原子層堆積） ・ドライエッチング これらの技術開発には、以下のような幅広い専門知識が求められます： ・材料科学・固体物理・熱力学・流体力学 ・無機化学・有機化学 ・電気磁気学・高周波工学・電子工学・電気回路 ・機械工学・真空工学 こうした知識を融合し、精度の高い薄膜形成や高アスペクト比エッチングなどの課題に取り組んでいます。 今後は半導体分野における当社の存在感をさらに高めるべく、技術革新を加速しています。 真空総合メーカーとしての複合的な技術視点を活かし、半導体産業に新たな価値を提供し続けます。 【面白さ・やりがい】 ・多様な専門知識を融合し、複雑な課題に挑む醍醐味 私たちの仕事は幅広い専門分野の知識を組み合わせて課題解決に取り組みます。例えば、薄膜形成のプロセスでは、材料の特性を理解しつつ、真空環境下でのプラズマの挙動を制御しなければなりません。プラズマの挙動を制御するためには、電気回路、高周波、機械工学などの知識が必要となります。複雑な現象を一つひとつ解き明かし、最適な装置設計やプロセス条件を導き出す過程は、まるでパズルを解くような面白さがあります。また、理論と一致しない場合もあり、実験データをもとに仮説を立て、検証し、改善を繰り返すことで、技術が着実に進化していく手応えを感じられます。 ・研究職でありながら、製品の納品まで一貫して関われる面白さ 会社の規模が大きくなるほど分業化が進み、自身が担当するのは製品開発の一部分だけという話をよく聞きます。 しかし、アルバックでは技術の原理検証、製造装置の構想設計から製品化、さらには顧客への納入・サポートまで幅広い業務に携わることができます。 そのため、専門性を高めながら幅広い知識も身につけられます。 自身が関わった技術の「始まり」から「社会実装」までを見届けることができるやりがいのある仕事です。 【研究開発職の声】 「任される裁量が大きく、若手でも挑戦できる」 「チームでの連携が強く、尊重し合える文化」 「海外との連携も多く、グローバルな活躍が可能」 このような環境で、自由な発想と深い探究心を持って研究に取り組むことができます。 意欲ある皆さまのご応募をお待ちしています。
- 求める人物像
- 1. チャレンジ精神を持つ方 新しい技術領域に積極的に挑戦し、薄膜形成やエッチング技術における革新に取り組みたい方を歓迎します。 困難な課題にも前向きに取り組み、常に技術の進化を目指して挑戦し続ける姿勢を重視しています。 2. 学び続ける姿勢を持つ方 現在の知識やスキルにとどまらず、入社後も継続的に学び、自己成長を追求できる方を求めています。 業界の最新技術やトレンドに敏感であり、技術力の向上に対して主体的かつ意欲的に取り組める方を歓迎します。 3. チームで成果を生み出せる方 チームメンバーや他部門と協力しながら、共通の目標に向かって主体的に取り組める方を求めています。 円滑なコミュニケーションと相互理解を大切にし、信頼関係を築きながらチームの力を最大限に発揮できる方を歓迎します。 また、以下のような経験を活かしやすい環境です： ・真空装置や薄膜形成・エッチング技術に関わった経験 ・実験設計、データ取得・考察など、研究開発プロセスへの主体的な関与 私たちは真空装置を用いた薄膜形成およびエッチング技術の高度化と革新を通じて、産業と社会に新たな価値を提供していきます。 挑戦を恐れず、学びを楽しみ、チームとともに未来を切り拓いていく意欲ある方のご応募をお待ちしています。
- 関連する研究キーワード
- ALD CVD プラズマ プロセス 研究開発 材料 真空 電子デバイス 薄膜 半導体 スパッタ 半導体デバイス ドライエッチング ロジック メモリー 半導体製造装置
この企業の他の募集を見る
本募集情報は企業によって入力された内容を基に掲載しております。内容に関するお問い合わせ はLabBase事務局までご連絡ください。