インターン・仕事体験 応募受付中 2027/01/31(日)まで
ナノの世界を”化学で磨く” 世界シェア84%の材料メーカー【研究開発職による業務紹介&先輩社員座談会】
株式会社フジミインコーポレーテッド研究開発職 · 28卒
花王株式会社
化学 / 機械 / その他素材 / 化粧品 / その他
28年就職：本採用
研究開発職
【28卒マイページ登録受付中】産業用ケミカル製品の研究開発
- 募集職種
- 研究開発職
- 対象資格
- 2028年修了見込みの方 修士, 博士
- 対象専攻
- 工学 / 材料工学 総合理工 / ナノ・マイクロ科学・応用物理学 化学 / 基礎化学・複合化学・材料化学
- 勤務予定地
- 和歌山県
- 面接予定地
- 東京都
- 選考フロー・応募後の流れ
- 今後の選考やイベントについては詳細が決まり次第、ご連絡をいたします。 まずは「応募」をお願いします。
- 応募受付期間
- 2026年6月10日(水) ~ 2027年3月31日(水)
- 仕事内容
- サステナブルな未来社会の実現に向けて、社会インフラ、デジタル画像、IoT・半導体、次世代モビリティ、環境・リサイクル関連など、幅広い産業の多様なニーズに対応する革新的な産業用ケミカル製品の研究開発を行っています。 【花王 産業用ケミカルだからこそできること】 ・お客様と共によきモノづくりをする楽しさを味わえる ケミカル製品は直接お客様のもとへ届けます。お客様から「すごいね」、「こういうの欲しかった」と言われた時に達成感を味わえます ・グローバルで様々な人と関わり、世界の産業を支えている実感 自分が関わった製品を世界の展示会でアピールしその場で商談が始まることも。 研究事例) ①社会インフラの発展を支えるスラリーレオロジー制御技術 ・高性能AE減水剤『マイテイ』に関する研究 セメント粒子の分散技術を追求し、コンクリートの低含水量化と高い流動性（作業性）の両立を実現する高性能AE減水剤の設計・開発。 コンクリートの短期強度発現や高い流動性付与技術を確立することで、コンクリート製品の生産性向上に貢献します。 ・レオロジー改質剤『ビスコトップ』に関する研究 界面科学を駆使し、ひも状ミセルの特異な粘弾性を利用したレオロジー改質剤の開発。 これにより、水中・海水中でもコンクリートが飛散・分離することなく、高い充填性を保てる技術を確立し、環境に配慮した安心・安全な社会インフラ工事を実現。 https://www.kao.com/jp/innovation/resear... ②社会インフラの発展を支える改質ポリマー技術 アスファルト舗装が抱える課題、特に近年の地球温暖化による夏場の重車両荷重下での凹みに対し、アスファルトの各構成成分を深く考慮した高機能ポリマーを設計し、舗装体へわずか1％併用するだけで、作業性を維持しつつ耐久性を5倍以上に高める技術を開発。 これにより、油や雨水に弱いといったアスファルトの既存課題も大幅に改善。さらに、環境配慮への貢献として、回収PETを原料に用いる高耐久な改質ポリマーの設計にも成功しており、この技術の実用化を推進することで、住み続けられる街づくりと資源循環（つくる責任、つかう責任）の両立を目指します。 https://www.kao.com/jp/innovation/resear... ③未来のIoT社会を支える半導体洗浄剤の開発とエコ洗浄プロセスに関する研究 半導体製造プロセスにおける洗浄工程は、膨大な超純水と薬品を長時間使用するため、多大なCO2排出源となっています。 この課題に対し、CO2排出量を大幅に削減しつつ、従来よりも高い清浄度を実現する革新的な洗浄剤の開発。 特に、長時間洗浄の原因である研磨由来のナノサイズのシリカ粒子（直径30cmの基板に約7兆個付着）の除去に着目し微小シリカの除去効果と基板表面の汚染を防ぐ親水化効果を両立させたプレ洗浄剤を開発し、研磨直後にわずか数十秒のプレ洗浄工程を導入することで、シリカ付着物を大幅に低減することに成功。 https://www.kao.com/jp/innovation/resear...
- 求める人物像
- 花王は、こころ豊かな生活文化を提案する企業として、共に成長し、次の世代へバトンをつないでいこうという意志を持った人財を求めています。人財の成長は、企業の成長に直結します。 チャレンジ意欲あふれる皆さんの活躍に期待すると共に、花王もまた、社員一人ひとりの能力・個性を最大限に発揮できる仕組みと風土創りを目指していきます。 ・チャレンジを続けられる人財 ・高い専門性を持った人財 ・国際感覚豊かな人財 ・チームワークを大切にし、協働で成果を上げる人財 ・高い倫理観を持った人財
- 関連する研究キーワード
- ナノ粒子 高分子 ポリマー 界面科学 レオロジー制御 分散技術 サステナ 半導体洗浄技術
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