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28卒夏_＜8/24〜9/4＞【測長SEM・検査SEMの研究開発】次世代装置向け電子ビーム源の基礎特性評価および分析_42017
株式会社日立製作所研究開発職 · 28卒
株式会社日立製作所
ソフトウェア・情報処理 / 機械 / 電気・電子機器 / その他メーカー / エネルギー
28年就職：インターン・仕事体験
研究開発職
28卒夏_＜8/24〜9/4＞【測長SEMの研究開発】最先端半導体デバイスの計測に対応した走査型電子顕微鏡(SEM)の基礎特性評価および分析_42069
- 募集職種
- 研究開発職
- 対象資格
- 2028年修了見込みの方 学部, 修士, 博士, 高専
- 対象専攻
- 工学 / 機械工学・電気電子工学・土木工学・建築学・材料工学・プロセス・化学工学・総合工学 総合理工 / ナノ・マイクロ科学・応用物理学・量子ビーム科学・計算科学 情報学 / 情報学基礎・計算基盤・人間情報学・情報学フロンティア 数物系科学 / 数学・天文学・物理学・地球惑星科学・プラズマ科学 化学 / 基礎化学・複合化学・材料化学 総合生物 / 神経科学・実験動物学・腫瘍学・ゲノム科学・生物資源保全学 生物学 / 生物科学・人類学 農学 / 基礎生物学・生産環境農学・農芸化学・森林圏科学・水圏応用科学・社会経済農学・農業工学・動物生命科学・境界農学
- 勤務予定地
- 茨城県
- 備考
- 〒312-8504 茨城県 ひたちなか市新光町552番53 JR常磐線勝田駅よりタクシーで約20分
- 選考フロー・応募後の流れ
- 書類審査を実施します。応募者多数の場合のみ、加えて2次選考（電話面談）を実施します。 １．まず書類審査を実施します。結果は、マイページにてお知らせいたします。 ２．書類審査の結果、2次選考に進んでいただく方には、2次選考申し込みをしていただきます。 ３．2次選考では電話/オンラインで面談を実施いたします。結果は、マイページにてお知らせいたします。
- 応募受付期間
- 2026年5月18日(月) ~ 2026年5月31日(日)
- 実施期間
- 2026年8月24日(月) ~ 2026年9月4日(金)
- 備考
- 本インターンシップはインターン期間(土日祝を除く)すべて参加できる方を対象といたします。※実習初日は、PCお渡しの為、オンライン、対面にかかわらずインターン実習先へ出社いただきます。
- 本インターンシップでは、半導体の寸法計測に用いられる走査型電子顕微鏡(測長SEM)を対象とした研究開発業務の一端を体験していただくことを予定しています。測長SEMの基礎から応用までを俯瞰し、実際の研究開発現場における課題検討から対策立案に至るプロセスを通じて、電子光学技術への理解を深めていただきます。 主な内容 ・走査型電子顕微鏡(SEM)の基本操作に関する実習 ・電子ビームの安定性向上をテーマとした技術課題の検討 ・課題抽出から要因分析、対策案の立案に至る研究開発プロセスの体験 【部署紹介】 評価研究開発部では、次世代半導体向けの測長SEMおよび検査SEMを対象とした電子光学技術の研究開発を担っています。サブオングストロームオーダーの極めて高い測長再現性や、ナノメートルオーダーにおける高感度な欠陥検出の実現を目指し、電子線プローブフォーミング技術、信号検出技術などの中核技術を自ら企画・設計・検証することで、装置性能の根幹を支える先端技術の創出に取り組んでいます。 【魅力・やりがい】 最先端の半導体プロセスに対応するため、従来技術の延長では解決できない高度な技術課題に挑戦できる点が本業務の大きな特長です。電子光学の基盤理論から実機検証までを一貫して行い、チームとして知見と技術を蓄積・深化させることで、競争力の高い製品価値の創出に直接貢献できることに大きなやりがいがあります。 【受入先からのメッセージ】 評価研究開発部では、専門分野の異なるメンバーが密に連携し、技術的な議論を重ねながら課題解決に取り組む研究開発環境を大切にしています。基礎から応用まで幅広いテーマに携わることで技術力を高めていただける環境が整っていますので、当部の研究開発や技術領域にご関心をお持ちいただけましたら、ぜひご応募ください。
- 求める経験、スキル、資格など
- ■必須となるスキル・経験等 ベーシックなPCスキル（Microsoft Word,Excel,PowerPoint等） ■あれば望ましいスキル・経験等なし
- 関連する研究キーワード
- 走査型電子顕微鏡 分析 半導体プロセス 欠陥検出 半導体デバイス 次世代半導体 実機検証 寸法計測 研究開発プロセス 測長SEM 基礎特性評価 信号検出技術 検査SEM 電子光学技術 電子線プローブフォーミング技術 電子ビーム安定性 技術課題検討 評価研究開発部 サブオングストロームオーダー 測長再現性 ナノメートルオーダー 装置性能 基盤理論 製品価値創出 研究開発環境
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