【研究を頑張る学生必見】研究職キャリアはつらい？企業研究者40年の実体験から解説

【参加費無料】研究歴約40年のレゾナック研究者が語る、研究者のキャリアのリアルに迫る！

研究開発に長く向き合い続けてきたレゾナックの企業研究者（フェロー）が登壇し、自身のキャリアを振り返りながら、研究者としてのキャリアを語ります。
本イベントでは論文数や肩書きといった表面的な成果だけではなく、研究職を軸にとしてどのようにキャリアを築いてきたのか、 その意思決定の背景や転機にフォーカスします。

本イベントで得られること

◎ 企業研究者のキャリアの描かれ方
企業研究者のキャリアは必ずしも計画通りに進むものではありません。
研究テーマの変更や研究環境の変化、思うように成果が出ない状況での心構えとは？
研究職のキャリアならではの悩みや壁について、企業の研究所で約40年研究開発に携わってきた立場から語ります。

◎ 研究領域で直面したリアルな苦労と意思決定
時代や社会の変化に事業環境が影響されて研究内容の方向転換を迫られたとき、研究者としてどのように考え、どんな選択をしてきたのか。
企業研究者としての現場視点の苦労話を通して、研究者キャリアのリアルな意思決定プロセスを知ることができます。

◎ 20代での研究経験が、その後の研究職キャリアに与えた影響
学生時代から20代にかけて取り組んだ研究が、どのように現在の研究テーマやキャリアにつながっていったのか。「今やっている研究は、将来どう活きるのか」を考えるヒントを得られます。

◎ 研究職キャリアの選択肢と、長く研究を続けるための視点
就職活動向けに整えられた成功談ではなく、企業研究者として約40年歩んできたからこそ語れる、等身大のキャリアの現実を共有します。
研究職としてのキャリアの選択肢や可能性を整理し、自分自身の進路を考える材料を得られる時間です。

【登壇者情報】近藤誠一氏 (株式会社レゾナック、フェロー、工学博士)

講師略歴：
1988年 (株)日立製作所基礎研究所
1996年 (株)日立製作所中央研究所
2000年 IMEC vzw (ベルギー)
2002年 (株)半導体先端テクノロジーズ (Selete)
2003年 (株)ルネサステクノロジ
2010年ルネサスエレクトロニクス(株)
2011年日立化成(株)
2023年 (株)レゾナック

専門は半導体プロセスと材料。
日立基礎研では表面物理や超電導材料の研究、日立中研・imec・Selete・ルネサスで半導体配線プロセス、特にCMP (化学機械研磨) の研究開発に携わり、日立化成・レゾナックではCMPスラリー (研磨材)の開発部長から事業部長を経験し、現在はフェロー。

(公社)精密工学会プラナリゼーションCMP委員会の副委員長、国際学会ICPT創設メンバーとして第1回を東京で2004年に開催、国際学会ADMETA2010委員長(現在は顧問・委員)、(一社)半導体産業人協会委員。国際論文47報、国際学会127報 (内招待33報)、特許120出願。2001年IEEE IITC The Michel Lerme Best Paper Award,2001年米国R&D100 Award、2004年14thSEMI STS Award、2008年第71回半導体・集積回路技術シンポジウム論文賞など、多数受賞。