大日本印刷株式会社

27年就職：インターン・仕事体験

設計・開発職（メカ、部品等）

テーマ51:半導体向けフォトマスク製造プロセス・設備・先端フォトマスク（EUV、NIL）開発

所要日数:1週間程度業務体験埼玉県

対象専攻: 工学 / 機械工学・電気電子工学・プロセス・化学工学情報学 / 情報学基礎・計算基盤・人間情報学・情報学フロンティア数物系科学 / 数学・天文学・物理学・地球惑星科学・プラズマ科学化学 / 基礎化学・複合化学・材料化学

仕事内容: 【概要】今後も成長が期待される半導体向け外販フォトマスク市場にてトップシェアを誇るDNPの主力工場で、革新的な生産システム・プロセス・設備開発・先端マスク開発（EUV、NIL）業務について体験ができます。現在、スマートファクトリ化を目指し、様々な新しい取り組みも行っており、協働ロボット開発やAI解析業務も体験できます。【実習内容】・オリエンテーション（部署説明、若手技術者座談会）・座学（製品プロセス、製造設備の構成、自動化・AI活用事例紹介）・実習（製造工程、検査・修正工程、技術開発業務）・結果のまとめ/報告【部署の雰囲気】私たちの部署は、最先端の半導体向けフォトマスクを生産、先端フォトマスクを開発しており、多くの技術者が様々なテーマに取り組んでいます。インターンシップに参加いただく方は、知的好奇心が旺盛で、活発に質問・意見できる対話型人材が好ましいです。また、学んだ内容をしっかりと理解頂き、大学での研究の進め方で学んだ発想力から、何かアイデアが出せるような創造力を有した人を求めています。

関連する研究キーワード: データ解析プログラミング機械設計技術開発半導体自動化 EUV フォトマスク製造プロセス協働ロボット AI解析スマートファクトリー nil 設備開発