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本採用 応募受付中
【28卒_設計(機械設計 or 電気回路設計 or ソフトウェア設計)職／転勤なし】
株式会社エリオニクス設計・開発職（メカ、部品等） · 27-28卒
特典 交通費支給
大日本印刷株式会社
ソフトウェア・情報処理 / 半導体・電子部品 / 化学 / 印刷 / 広告・出版
27年就職：インターン・仕事体験
設計・開発職（メカ、部品等）
テーマ53:ARグラスなどの次世代デバイス実現に向けたナノ構造体を持つ光学デバイスの製造プロセス開発
- 募集職種
- 設計・開発職（メカ、部品等）
- 対象資格
- 2027年修了見込みの方 学部, 修士, 高専, 高専専攻科
- 対象専攻
- 工学 / 機械工学・電気電子工学・プロセス・化学工学 情報学 / 情報学基礎・計算基盤・人間情報学・情報学フロンティア 数物系科学 / 数学・天文学・物理学・地球惑星科学・プラズマ科学 化学 / 基礎化学・複合化学・材料化学 総合生物 / 神経科学・実験動物学・腫瘍学・ゲノム科学・生物資源保全学 生物学 / 生物科学・人類学
- 勤務予定地
- 埼玉県
- 備考
- 埼玉県ふじみ野市
- 応募受付期間
- 2025年6月2日(月) ~ 2025年6月29日(日)
- 実施期間
- 2025年9月1日(月) ~ 2025年9月5日(金)
- 【概要】 DNPではARグラスなどの次世代デジタルインターフェイスとなる製品の社会実装に向けて各種光学素子などのナノ構造体を持つ機能性デバイスの製造プロセス開発を行っています。本実習は、DNPのコアであるナノ加工技術（EBリソグラフィーやナノインプリント）を用いた試作サンプル作りを体験することができます。（また、時間に余裕があれば光学シミュレーションを用いて各デバイスの設計コンセプトについても考察します。） 【実習内容】 ・オリエンテーション（部署説明、実験室見学、座談会） ・座学（EBリソグラフィー、ナノインプリント） ・実習（EBリソグラフィー、ナノインプリント、リバースエンジニアリング） ・予備（電磁場解析による光学シミュレーション） ・結果のまとめ/報告 【部署の雰囲気】 私たちの部署は、専門性が高い多様なメンバーが開発テーマの入れ替わりに合わせてチーム編成をフレキシブルに組み替えて事業化を目指して業務に取り組んでいる組織です。インターンシップにご参加いただく方には、インプットとして学びを吸収できるだけでなく、様々な考え方を活発に提案することができるアウトプットのスキルも期待しています。
- 報酬・待遇
- 交通費支給, 宿泊費支給
- 求める経験、スキル、資格など
- ・モノづくりとその工程に興味がある方
- 関連する研究キーワード
- リバースエンジニアリング ナノ構造体 ナノインプリント 光学デバイス ナノ加工技術 製造プロセス 電磁場解析 光学シミュレーション EBリソグラフィー ARグラス
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