株式会社日立製作所

株式会社日立製作所

従業員数
29850人
業種
ソフトウェア・情報処理 / 機械 / 電気・電子機器 / その他メーカー / エネルギー
所在地
東京都千代田区丸の内1-6-6
HP
http://www.hitachi.co.jp/about/index.html
27年就職:インターン・仕事体験
設計・開発職(メカ、部品等)

27卒冬_<1/19〜1/30>(光学設)(物理系エンジニア)半導体製造を支えるウエーハ表面検査装置向けレーザ光学系の光線追跡シミュレーションによる設計開発

所要日数:2週間程度 茨城県
募集職種
設計・開発職(メカ、部品等)
対象資格
2027年修了見込みの方 学部, 修士, 博士, 高専
対象専攻
数物系科学 / 物理学
勤務予定地
茨城県
備考
〒312-8504 茨城県 ひたちなか市新光町552番53 ■最寄り駅 JR常磐線勝田駅よりタクシーで約20分
選考フロー・応募後の流れ
書類審査を実施します。応募者多数の場合のみ、加えて2次選考を実施します。 1.まず書類審査を実施します。結果は、マイページにてお知らせいたします。 2.書類審査の結果、2次選考に進んでいただく方には、2次選考申し込みをしていただきます。 3.2次選考では電話/オンラインで面談を実施いたします。結果は、マイページにてお知らせいたします。
応募受付期間
2025年10月24日(金) ~ 2025年11月4日(火)
実施期間
2026年1月19日(月) ~ 2026年1月30日(金)
備考
本インターンシップはインターン期間(土日祝を除く)すべて参加できる方のみを対象といたします。※実習初日は、PCお渡しの為、オンライン、対面にかかわらずインターン実習先へ出社いただきます。
メタバース,生成AI,自動運転,社会インフラ機器など幅広い分野で用いられる多様な半導体の安定供給を支えるため, 半導体工場で欠かせないウェーハモニタツールである光学式半導体ウェーハ検査装置を開発しています。 このインターンでは,次世代半導体プロセスに向けて開発している新機種開発の一翼を担ってもらいます。 光学式ウェーハ表面検査装置は,パターン有/無の半導体ウェーハ上に存在する微小異物や欠陥を検査する装置です。レーザー散乱応用技術を用い,ウェーハ上の微小異物やさまざまな欠陥を高感度・高速に検査します。低段差・平坦系欠陥であるシャロースクラッチ,ウォーターマーク,スタッキングフォールト(積層欠陥),研磨起因突起欠陥,成膜起因平坦欠陥なども不良の原因となります。弊社の装置は,これら欠陥からの散乱光を捕捉しつつ,同時にウェーハ表面からの背景ノイズを抑制することで高感度検査を実現しており,半導体デバイス製造工程で発生する異物の管理,およびウェーハ出荷・受け入れ品質検査向けに広く活用されています。  光学式ウェーハ表面検査装置は,レーザ波長よりも小さい異物を検出するため、高度な光学技術が必要とされています。  本インターンシップでは,光線追跡シミュレーション(ZEMAX,CODEV等)やデータ解析プログラム(MATLAB,python等)を使用して,半導体ウェーハ検査装置で使用される高感度・高速光学デバイスとそれを用いたレーザ光学系や光学システムの光学設計を検討してもらいます。  その他,クリーンルームに配置された2m近い半導体ウェーハ表面光検査装置の見学や,多様な専門の技術者チームでの打ち合わせ,検討内容のまとめ資料作成とプレゼンなど,業界最先端の製品開発業務を予定しています。 ※新型コロナウイルスの感染拡大状況や会社方針などによりクリーンルーム外からの装置見学となる可能性があります。
求める経験、スキル、資格など
■必須となるスキル・経験等 ・PC(Windows,Exel,Word)の基本操作, ・三角関数等の数値解析技術 ・レーザやレンズに関する基礎光学知識 ■あれば望ましいスキル・経験等 ・光学系の実験経験,光線追跡シミュレーションの経験,パイソン等プログラムを利用したなど数値解析スキル ・半導体プロセスの基礎知識
関連する研究キーワード
シミュレーション データ解析 レーザー 光学 光学系 半導体 クリーンルーム 光線追跡 検査装置 ウェーハ オプトメカ ZEMAX CODEV LightTools
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